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動態(tài)光散射原理-納米粒度設備的理論基礎

更新時間:2018-11-26 點擊數(shù):2686

動態(tài)光散射原理-納米粒度設備的理論基礎

基于動態(tài)光散射原理的納米粒度儀的理論基礎是基于動態(tài)光散射原理。納米粒度分析儀的基本測試原理:激光光電倍增管(PMT)放大器/鑒別器數(shù)字相關器計算機入射透鏡樣品池基于動態(tài)光散射納米粒度分析儀原理基本測試原理圖激光器發(fā)射的激光器激光通過入射光路照射到樣品池中的顆粒上。散射光通過接收光路進入光電探測器,然后由數(shù)字相關器獲得其光強度的自相關函數(shù)G時的散射光強度。對于靜止過程,t = 0。根據(jù)高斯光場的Siegert關系,可以獲得光強度自相關函數(shù)G的光強度自相關函數(shù)的值,其通常被稱為基線。它可以在測試中直接測量,該測試是反映整個光學系統(tǒng)的空間相干性的參數(shù)??臻g相干因子主要由系統(tǒng)的光學性質(zhì)決定。對于單分散粒子系統(tǒng),存在延遲時間; Γ是線寬(或衰減率),其表達式為:粒子的平移擴散系數(shù),q為散射矢量,n為溶劑的折射率,θ為散射角。

對于真空中的光波長。對于納米粒度儀的球形顆粒,根據(jù)Stokes-Einstein公式,D與顆粒直徑d具有以下關系:= 1.3810-23是絕對溫度,η是溶劑粘度,d是顆粒直徑。可以看出自相關操作的表征和動態(tài)光散射原理的物理意義來測試納米粒子尺寸的理論基礎,在外部條件的條件下,粒徑只是光強度自相關函數(shù)的線寬。 (衰減率)納米粒度分析器中動態(tài)光散射原理中最關鍵和最主要的任務是獲得散射光的自相關函數(shù)。因此,粒度測試方法中的動態(tài)光散射法(DLS)也變?yōu)楣庾酉嚓P光譜法(PCS)。相關的動態(tài)光散射技術是一種常用于處理隨機過程和噪聲理論的方法。

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